一、設備用途及工藝條件簡述
1.1、設備用途:材料在氧化性氣氛中的連續(xù)性氧化燒成。
1.2、裝料方式:將物料裝于匣缽中,再將匣缽置于棍棒上,由輥棒傳動坩堝在窯內移動(坩堝底部不可有扭曲現象),坩堝單排單層放置。
1.3、窯內氣氛:空氣。物料在燒成過程中會產生水蒸氣等廢氣,廢氣中不含腐蝕性成分。
二、主要技術參數及要求
2.1、 額定溫度: 500oC。
2.2、 常用溫度: 300oC。
2.3、 額定功率: 60 KW
2.4、 保溫功率: 35KW
2.5、 供電電源: 380V
2.6、 加熱區(qū)數: 8區(qū)
2.7、 控溫點數: 11點
2.8、 加熱方式: 上下加熱
2.9、 加熱元件:
13921306198,17837633384
0510-87816919
微信號
LV1315119011